第993章 光刻机
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第九百九十三章 光刻机
从医院出来天已经黑了，李乾从医院出来并没有立即离去，而是去买了晚餐送到病房才离开。
看着桌上的晚餐，李夫人轻叹口气，“多好的孩子，可惜已经结婚了，要不然倒是可以撮合一下闺女和他。”
“李小子的确不错，如果能当我们女婿当然好。只是这家伙已经早早便结婚了，而且孩子都三个了，她的妻子温柔贤惠，而且十分漂亮，咱们闺女没有希望了。”
“哎，可惜了。”
李乾并不知道他走了之后，李部长两人竟然又讨论起了他，而且还想让他当女婿。
再次从医院出来，因为脑子里想的都是接下来该如何做。光刻机是晶圆代工中最核心的制造设备，制造成本和技术门槛都很高。因为光刻机涉及到众多学科内容，精密光学、精密运动、高精度环境控制等多项先进技术。因此，光刻机被誉为半导体工业皇冠上的明珠。作为半导体制造中不可或缺的精密设备，光刻机的工艺水平直接决定了半导体的制程和性能水平。
在后来被卡脖子的时候，李乾曾经看过网上的很多报道。说华夏五零年便开始研发光刻机，八十年代技术水平甚至领先世界。其实这有些言过其词了，八十年代华夏虽然还在进行光刻机研究，但是和欧美以及岛倭国的光刻机相比已经有了不小的差距。而且国内因为科技水平落后，对芯片需求量不高，光刻机研发出来也没有销量。而且成本比起国外更加高端的光刻机相比也没有优势。
再加上改革开放之后，华夏国开始大规模引进外资，用市场换技术、用空间换时间，贸工技的路线挤压了自主技术的成长空间，许多国企纷纷转型，技术下马、项目停滞，甚至有段时间，在社会上“造不如买，买不如租”的思想占据了主流，其中就包括了光刻机项目。
随着改革开放，华夏经济实现了腾飞，但是华夏光刻机却逐渐没落了。没有严密的产业链，华夏的集成电路产业自上而下地出现了脱节，科研、教育、产业，原本互为一体的科研体系变成了孤立的三个部分。产业上的生产厂家成了组装厂，给涌入的外资企业提供大量的廉价劳动力，软件商则成了国外技术体系的附庸，只能跟随国外的标准，原本大量从事光刻机研发的科研人才，有的去了外资企业，有的转型做其他研究，有的直接失业。至此，华夏光刻机产业彻底没落了。
前世的发展轨迹，李乾不希望再在这一世看到。虽然他只有一个人，他也希望可以凭借自己的微弱力量稍微的影响一些历史的进程。
“李总，已经到了晚饭时间，您想去哪里吃”
“啊，随便找个地方对付两口就行。”
赵平也听出李总有些心不在焉，于是便在路边找了一个看着还不错的小店进去随便吃了点东西便回去了。
回到住处，李乾立即来到书房，从公文包里拿出本子开始写写画画。
就在刚刚他有了一些想法，他认为对未来光刻机的研发有用必须赶紧记下来，万一不小心忘记了那大大不妙了。李乾知道芯片生产主要分为设计、制造、封测三大环节。芯片设计主要根据芯片的目的进行逻辑设计和规则制定，并根据设计图制作掩模以供后续光刻步骤使用。 芯片制造实现芯片电路图从掩模上转移至硅片上，并实现目标芯片功能，包括化学机械研磨、薄膜沉积、光刻、刻蚀、离子注入等步骤。芯片封测完成对芯片的封装和性能、功能测试，是产品交付前的最后工序。
其中最为重要的便是芯片制造环节，他并不是说芯片设计不重要，只是芯片制造更为重要而已。因为设计出的芯片，想要变成产品，便需要光刻机进行生产。所以芯片生产制造中，所使用的最为关键的技术就是光刻机。
因为有着前世的记忆，李乾虽然不是专业研究光刻机的专家，到那时通过报纸，新媒体能途经也了解一未来光刻机的信息。光刻机根据根据用途的不同，可以分为用于生产芯片、用于封装和用于led制造等。根据采用的光源的不同，可分为紫外光源（uv）、深紫外光源、极紫外光源（euv），光源的波长影响光刻机的工艺。后世被欧美用来卡我们脖子的阿斯麦便是这类的代表，也是世界上最先进的光刻机。
根据操作方式的不同。可分为接触式光刻机、接近式光刻机、投影式光刻机。
而据他所知，最近华夏投入大量资金正在研发的光刻机正是接触式光刻机，这种光刻机后来经过实践证实，因为生产过程中光刻胶很容易污染掩膜板；造成掩膜板损坏，使其使用用寿命很短大大缩短。为了减少不必要的损失，从现在开始他们的团队应该放弃接触式光刻机的研发，转而进行研究接近式光刻机，因为这种光刻机在掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙，可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用；掩膜寿命大幅延长，图形缺陷大幅减少，所以在未来一段时间内，接近式在现代光刻工艺中应用最为广泛。
至于投影式光刻机，因其投影式光刻机其高效率、无损伤的优点，超越接近式光刻机成为集成电路主流光刻技术。
一念及此，李乾心中有了打算。现在华夏无论是在光刻机研发的资金投入还是技术积累和欧美以及岛倭国相比都有不小的差距。想要缩小这个差距，办法只有两个，第一是加大资金和人才投入进行光刻机研发，第二种则是集中有限的力量，集中一种光刻机进行研发，这样可以让使用最有限的资源发挥最大的效果。
